フレキシブルエレクトロニクス部門 ホーム

2019年、東北パイオニア株式会社を退職して山形大学有機エレクトロニクスイノベーションセンター（INOEL）フレキシブル基盤技術研究グループ（仲田/古川/結城/向殿研究グループ）のプロジェクト研究員として採用され、2023年9月1日、産学連携准教授に昇任いたしました。

2023年3月末の仲田産学連携教授、向殿産学連携教授の退職、2023年5月末の結城准教授の退職に伴い、2023年6月より独立して、フレキシブルエレクトロニクス部門として、フレキシブル基盤技術研究グループの取り組みを継続すべく産学連携研究に取り組んで参ります。

また、2023年6月、結城准教授が代表を務めていた山形大学フレキシブルエレクトロニクス産学連携コンソーシアム（YU-FLEC）の代表にも就任しました。

尚、向殿先生には2023年5月よも山形大学客員教授としてサポートいただくことになり、山形大学フレキシブルエレクトロニクス産学連携コンソーシアム（YU-FLEC）の顧問にも就任いただきました。

フレキシブル基盤技術研究グループの基本コンセプトである「ニーズファースト型産学連携」（連携企業の要望を第一優先する産学連携）を今後も推進致しますので、皆様のご支援のほどよろしくお願い申し上げます。

2023年9月

産学連携准教授 杉本 美穂

e-mail：m-sugimoto@yz.yamagata-u.ac.jp

電話：0238-29-0575

【保有技術・スキルなど】　技術紹介のページもご覧下さい。

・有機EL：デバイス作製技術、評価・解析技術

・有機太陽電池：デバイス作製技術、評価・解析技術

・プロセス技術：真空成膜（蒸着、スパッタ、ALD等）、ウェット成膜（インクジェット、スプレー等）、封止技術、貼り合せ技術など

・ガスバリア性評価：Ca腐食法など

・ガスバリア層形成技術：スパッタ/ALD/スパッタ交互積層バリア膜、スパッタ/樹脂/スパッタ交互積層バリア膜

※参考：フレキシブル基盤技術研究グループの技術紹介

【企業の皆様へ】

企業の皆様からのご要望を第一優先する「ニーズファースト型産学連携」に取り組みます。

特に以下のような企業の皆様にはお役に立てると思います。

・有機エレクトロニクスデバイス（有機EL等）、フレキシブルデバイス用の材料、部材、プロセス、装置などを開発しているが、自社での有機エレクトロニクスデバイス（有機EL等）の作製がむずかしい皆様

・自社で開発している材料、部材、プロセス、装置などを有機エレクトロニクスデバイス（有機EL等）、フレキシブルデバイスに適用したときの課題を明確化し、次の開発に繋げたい皆様

・自社で開発した材料、部材、プロセス、装置などをユーザー（デバイスメーカー等）に紹介するためのデータの取得、試作品の作製を行いたい皆様

・自社技術の開発のために、山形大学有機エレクトロニクスイノベーションセンターの装置を使用したい皆様

・新材料、新デバイスの実験検証を行いたい皆様

・有機エレクトロニクス技術（有機EL等）、フレキシブル技術を理解し、学術指導を受けたい皆様。技術動向を知りたい皆様

・他社に情報を開示することなく、大学と「１対１」の共同研究を行いたい皆様。競争領域の技術の共同研究を行いたい皆様

【杉本美穂の経歴・スキルなど】　メンバーのページもご覧下さい。

（経歴）

1999年 慶應義塾大学大学院理工学研究科 修士課程修了

1999年～2004年 （株）村田製作所

2005年～2019年 東北パイオニア（株）

2019年～ 山形大学 プロジェクト研究員

2023年9月～ 山形大学 産学連携准教授（現職）

（専門）

有機EL、有機太陽電池、プロセス技術、封止技術、電極技術、装置技術、評価解析技術など

（主な研究発表）　成果発表のページご覧下さい。

・T. Yuki, T. Nishikawa, M. Sugimoto, H. Nakada, M. Koden, ITE Trans. on MTA Vol. 9, No. 4, pp. 216-221 (2021).
“High Temperature Tolerant Barrier Films with Stacking Barrier Layers by Sputtering and ALD”

・M. Sugimoto, Y. Fukuchi, H. Tsuruta, M. Koden, H. Nakada, T. Yuki, A-COE 2021, PA-17 (2021).
“OLEDs with on-demand patterns drown by ink-jet printing”

・M. Koden, M. Sugimoto, N. Kawamura, T. Yuki, H. Nakada, AM-FPD21, 3-1 (2021). [招待講演]
“Novel Flexible Films with High Gas Barrier Layers by Sputtering and ALD”

・杉本 美穂, 福地 良寿, 鶴田 洋明, 向殿 充浩, 仲田 仁, 結城 敏尚, 有機EL討論会第32回例会（オンライン）, S5-1 (2021).
「インクジェット印刷した絶縁膜による オンデマンドパターンOLEDの高精細化」

・T. Yuki, T. Nishikawa, M. Sugimoto, H. Nakada, M. Koden, IDW’20, FLX2-3 (2020).
“High Temperature Tolerant Barrier Film with Stacking Barrier Layers by Sputtering and ALD”

・杉本 美穂, 福地 良寿, 鶴田 洋明, 向殿 充浩, 仲田 仁, 結城 敏尚, 有機EL討論会第31回例会（オンライン）, S7-3 (2020).
「インクジェット印刷した絶縁膜によるオンデマンドパターンOLED」