お知らせ
NEWS
2022.12.9 【説明動画】JST新技術説明会でのバリアに関する説明動画(硯里教授)が公開され ました。
以下のリンク(Youtube)から、視聴ください!https://youtu.be/5EGp6r6NgAA Youtube JST新技術説明会 Channelhttps://www.youtube.com/@user-rm3ii4zy3w/videos JST 新技術説明会(Web) JST研究成果最適展開支援プログラム(A-STEP)② ~機能材料~ 新技術 説明会【オンライン開催】 日時:2022年11月18日(金) 12:55~14:55 会場:オンライン開催 参加費:無料 主催:科学技術振興機構https://shingi.jst.go.jp/list/list_2022/2022_jst-2.html#20221118P-004 14:30~14:55 デバイス・装置 4)印刷で作製できるガラス並みのウルトラ・ハイバリア 山形大学 有機エレクトロニクスイノベーションセンター 副センター長 教授 硯 里 善幸 新技術の概要 本研究の特徴は、溶解可能なプレカーサに、窒素下・室温にて真空紫外光(VUV光 λ=172nm)を照射することで、緻密な無機膜を形成することである。特にSi-N結合 を主鎖に有するポリシラザンをプレカーサに用いることで、ウェットプロセスとして は世界最高のバリア性能を達成した。 従来技術・競合技術との比較 ハイバリアを達成するには緻密な無機膜が必要であるため、真空プロセスを用いるこ とが一般的である。本研究ではウェットプロセス(印刷・コート)であるため、真空 プロセスに比較して、高いスループット・低コストが達成可能である。VUV光プロセ スにおいても短時間で緻密化することを確認している。 新技術の特徴 ・ウェットプロセス ・VUV光緻密化 ・室温反応 想定される用途 ・フレキシブルデバイス(有機EL、太陽電池) ・センサー ・パッケージ