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2022.12.9 【説明動画】JST新技術説明会でのバリアに関する説明動画(硯里教授)が公開され ました。

以下のリンク(Youtube)から、視聴ください!https://youtu.be/5EGp6r6NgAAYoutube JST新技術説明会 Channelhttps://www.youtube.com/@user-rm3ii4zy3w/videosJST 新技術説明会(Web)JST研究成果最適展開支援プログラム(A-STEP)② ~機能材料~ 新技術説明会【オンライン開催】日時:2022年11月18日(金) 12:55~14:55会場:オンライン開催参加費:無料主催:科学技術振興機構https://shingi.jst.go.jp/list/list_2022/2022_jst-2.html#20221118P-00414:30~14:55デバイス・装置4)印刷で作製できるガラス並みのウルトラ・ハイバリア山形大学 有機エレクトロニクスイノベーションセンター 副センター長 教授 硯里 善幸新技術の概要本研究の特徴は、溶解可能なプレカーサに、窒素下・室温にて真空紫外光(VUV光 λ=172nm)を照射することで、緻密な無機膜を形成することである。特にSi-N結合を主鎖に有するポリシラザンをプレカーサに用いることで、ウェットプロセスとしては世界最高のバリア性能を達成した。従来技術・競合技術との比較ハイバリアを達成するには緻密な無機膜が必要であるため、真空プロセスを用いることが一般的である。本研究ではウェットプロセス(印刷・コート)であるため、真空プロセスに比較して、高いスループット・低コストが達成可能である。VUV光プロセスにおいても短時間で緻密化することを確認している。新技術の特徴・ウェットプロセス・VUV光緻密化・室温反応想定される用途・フレキシブルデバイス(有機EL、太陽電池)・センサー・パッケージ