2012.4.18 電子情報通信学会　電子デバイス研究会 (ED) 熱硬化型フッ素系高分子ゲート絶縁膜を用いた高分子TFTの高性能化*論文発表奨励賞受賞南木創,伊藤昌宏,奥慎也,福田憲二郎,熊木大介,水上誠,時任静士