山形大学 有機エレクトロニクスイノベ―ションセンター(INOEL) |
ホーム ⇒ 技術紹介 ⇒ ロールtoロール(R2R)法によるバリアフィルム作製 フレキシブルフィルム上にロールtoロール(R2R)PE-CVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)成膜装置でバリア層と透明導電膜を形成する技術を開発。 ■ PENフィルム基板のバリア性向上技術(連携:帝人株式会社)
[2018] ロールtoロール(R2R)成膜装置を用いてフィルム基板(帝人株式会社製PEN)のバリア性について検討し、バリア性向上に有効な知見を獲得しました。 ■ フィルムのバリア性に対する洗浄の効果(連携企業:FEBACS,
帝人 / 連携大学:明治大学永井先生)
[2018] ロールtoロール(R2R)洗浄装置(FEBACS製)を用いて、フィルム基板のバリア性に対する洗浄の効果について検討し、フィルム基板の洗浄がバリア性に有効であることを検証しました。 ■ バリア層付きPENフィルムを用いたフレキシブル有機EL(連携:NECライティング株式会社、帝人株式会社、他)
[2016] ロールtoロール(R2R)成膜装置を用いてバリア層を形成したPENフィルム基板(帝人株式会社製)を用いてフレキシブル有機ELパネルを試作しました。 <主な研究発表> (リンクの貼られている発表タイトルをクリックすると内容を見ることができます。) 1)
M. Koden
and H. Nakada, Nanofair2014 (2014, Dresden). 2)
M.
Koden, H. Kobayashi, T. Moriya, N. Kawamura, T. Furukawa, H. Nakada, IDW'14,
FLX6/FMC6-1 (2014). 3)
M.
Koden, The Twenty-second International Workshop on Active-matrix Flatpanel
Displays and Devices (AM-FPD 15), 2-1 (2015). 4)
M.
Koden, T. Furukawa, T. Yuki, H. Kobayashi, H. Nakada, IDW/AD’16,
FLX3-1 (2016). 5)
T.
Furukawa, N. Kawamura, M. Koden, H. Itoh, H. Kuroiwa, K. Nagai, LOPEC
(Large-area, Organic & Printed Electronics Convention) (2017). 6)
K.
Taira, T. Furukawa, N. Kawamura, M. Koden, T. Takahashi, IDW’17,
FLXp1-8L (2017). 7)
T.
Furukawa, Advanced Materials-2018 (WCAM2018) (2018). 8)
K.
Taira, T. Suzuki, W. Konno, H Chiba, H. Itoh, M. Koden, T. Takahashi, T.
Furukawa, IDW’18, FLX2-4L (2018). 9)
T.
Suzuki, W. Konno, K. Taira, H Chiba, H. Itoh, M. Koden, T. Takahashi, T.
Furukawa, IDW’18, FLXp1-10L (2018). |
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