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山形大学 有機エレクトロニクスイノベションセンター(INOEL
992-0119 山形県米沢市アルカディア1丁目808-48  TEL0238-29-0575  FAX0238-29-0569
仲田 仁(産学連携教授)nakada(at)yz.yamagata-u.ac.jp   向殿 充浩(産学連携教授) koden(at)yz.yamagata-u.ac.jp  (スパムメール防止のため半角@(at)にしています。)

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ロールールtoロール(R2R)法による電極付きCVDバリアフィルム作製(連携:帝人株式会社、他 [2020]

フレキシブルフィルム上にロールtoロール(R2RPE-CVDPlasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)成膜装置でバリア層と透明導電膜を形成する技術を開発。

ALDAtomic Layer Deposition)バリア [2020]

ALDを用いて高いバリア性を有するバリア層技術を開発。

有機EL用バリア層形成技術(連携:有機光エレクトロニクス実用化開発センター i3-opera [2020]

「有機光エレクトロニクス実用化開発センター(i3-opera:アイキューブオペラ)」(安達千波矢センター長)が開発を進めているCVDによるバリア膜成膜技術と連携し、フレキシブル有機ELデバイスのバリア性評価技術確立を共同で推進。

LIA-CVDによるバリア層形成(連携:株式会社SCREENファインテックソリューションズ [2019]

低インダクタンスアンテナ(LIALow Inductance Antenna)プラズマ技術を用いたCVD装置(株式会社 SCREENファインテックソリューションズ製)により作製した無機バリア膜。

CVD/ALD/CVD積層バリア膜(連携:株式会社日本製鋼所、NECライティング株式会社、帝人株式会社 [2017]

ドライ成膜/ウェット成膜積層バリア膜(連携:帝人株式会社、株式会社神戸製鋼所、メルクPM-M、株式会社FEBACS [2016]

 

 

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