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山形大学 有機エレクトロニクスイノベ―ションセンター（INOEL） |
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■ ALD（Atomic
Layer Deposition）バリア膜
[2022] ALDを用いて高いバリア性を有するバリア層技術を開発。 ■ 有機EL用バリア層形成技術（連携：有機光エレクトロニクス実用化開発センター
i3-opera）
[2020] 「有機光エレクトロニクス実用化開発センター（i3-opera：アイキューブオペラ）」（安達千波矢センター長）が開発を進めているCVDによるバリア膜成膜技術と連携し、フレキシブル有機ELデバイスのバリア性評価技術確立を共同で推進。 ■
LIA-CVDによるバリア層形成（連携：株式会社SCREENファインテックソリューションズ）
[2019] 低インダクタンスアンテナ（LIA：Low Inductance
Antenna）プラズマ技術を用いたCVD装置（株式会社 SCREENファインテックソリューションズ製）により作製した無機バリア膜。 ■ CVD/ALD/CVD積層バリア膜（連携：株式会社日本製鋼所、NECライティング株式会社、帝人株式会社） [2017] ■ ドライ成膜/ウェット成膜積層バリア膜（連携：帝人株式会社、株式会社神戸製鋼所、メルクPM-M、株式会社FEBACS）
[2016] |
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山形大学 有機エレクトロニクスイノベ―ションセンター（INOEL）
〒992-0119 山形県米沢市アルカディア１丁目808-48 TEL：0238-29-0575 FAX：0238-29-0569
仲田 仁（産学連携教授）nakada(at)yz.yamagata-u.ac.jp
向殿 充浩（産学連携教授）
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