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■ 「nano tech 2022」展資料（2022.1）

■ 試作品（「nano tech 2022」展などで展示）

■主な研究発表

1) T. Yuki, T. Nishikawa, M. Sugimoto, H. Nakada, M. Koden, IDW’20, FLX2-3 (2020).
“High Temperature Tolerant Barrier Film with Stacking Barrier Layers by Sputtering and ALD”

2) T. Yuki, T. Nishikawa, M. Sugimoto, H. Nakada, M. Koden, ITE Trans. on MTA Vol. 9, No. 4, pp. 216-221 (2021).
“High Temperature Tolerant Barrier Films with Stacking Barrier Layers by Sputtering and ALD”

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山形大学　有機エレクトロニクスイノベ―ションセンター（INOEL）
〒992-0119 山形県米沢市アルカディア１丁目808-48　　TEL：0238-29-0575　　FAX：0238-29-0569
仲田 仁（産学連携教授）nakada(at)yz.yamagata-u.ac.jp 　　向殿 充浩（産学連携教授） koden(at)yz.yamagata-u.ac.jp (ｽﾊﾟﾑﾒｰﾙ防止のため半角@を(at)にしています。)