JST新技術説明会(11/18)で発表します

JST新技術説明会(11/18)にて、当研究室の技術を紹介します。
ご興味ある方は、ぜひご参加ください!

JST 新技術説明会(Web)
JST研究成果最適展開支援プログラム(A-STEP)② ~機能材料~ 新技術説明会【オンライン開催】

日時:2022年11月18日(金) 12:55~14:55
会場:オンライン開催
参加費:無料
主催:科学技術振興機構

https://shingi.jst.go.jp/list/list_2022/2022_jst-2.html#20221118P-004

14:30~14:55
デバイス・装置
4)印刷で作製できるガラス並みのウルトラ・ハイバリア
山形大学 有機エレクトロニクスイノベーションセンター 副センター長 教授 硯里 善幸

新技術の概要
本研究の特徴は、溶解可能なプレカーサに、窒素下・室温にて真空紫外光(VUV光 λ=172nm)を照射することで、緻密な無機膜を形成することである。特にSi-N結合を主鎖に有するポリシラザンをプレカーサに用いることで、ウェットプロセスとしては世界最高のバリア性能を達成した。

従来技術・競合技術との比較
ハイバリアを達成するには緻密な無機膜が必要であるため、真空プロセスを用いることが一般的である。本研究ではウェットプロセス(印刷・コート)であるため、真空プロセスに比較して、高いスループット・低コストが達成可能である。VUV光プロセスにおいても短時間で緻密化することを確認している。

新技術の特徴
・ウェットプロセス
・VUV光緻密化
・室温反応

想定される用途
・フレキシブルデバイス(有機EL、太陽電池)
・センサー
・パッケージ