山形大学
有機エレクトロニクスイノベーションセンター
硯里研究室

【説明動画】JST新技術説明会でのバリアに関する説明動画（硯里教授）が公開されました

以下のリンク（Youtube）から、視聴ください！
https://youtu.be/5EGp6r6NgAA

Youtube　JST新技術説明会　Channel
https://www.youtube.com/@user-rm3ii4zy3w/videos

JST　新技術説明会（Web）
ＪＳＴ研究成果最適展開支援プログラム（Ａ－ＳＴＥＰ）②　～機能材料～　新技術説明会【オンライン開催】

日時：2022年11月18日(金) 12:55～14:55
会場：オンライン開催
参加費：無料
主催：科学技術振興機構

https://shingi.jst.go.jp/list/list_2022/2022_jst-2.html#20221118P-004

14:30～14:55
デバイス・装置
4）印刷で作製できるガラス並みのウルトラ・ハイバリア
山形大学　有機エレクトロニクスイノベーションセンター　副センター長　教授　硯里 善幸

新技術の概要
本研究の特徴は、溶解可能なプレカーサに、窒素下・室温にて真空紫外光（VUV光　λ＝172nm）を照射することで、緻密な無機膜を形成することである。特にSi-N結合を主鎖に有するポリシラザンをプレカーサに用いることで、ウェットプロセスとしては世界最高のバリア性能を達成した。

従来技術・競合技術との比較
ハイバリアを達成するには緻密な無機膜が必要であるため、真空プロセスを用いることが一般的である。本研究ではウェットプロセス（印刷・コート）であるため、真空プロセスに比較して、高いスループット・低コストが達成可能である。VUV光プロセスにおいても短時間で緻密化することを確認している。

新技術の特徴
・ウェットプロセス
・VUV光緻密化
・室温反応

想定される用途
・フレキシブルデバイス（有機EL、太陽電池）
・センサー
・パッケージ